日本刚刚重新发明了芯片制造 - Anastasi In Tech - 英语原声/中配

日本半导体即将起飞🛫

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别“重新发明”了，看得我牙酸。 佳能那压印机是美国人1996年想出来的，佳能2014年收了个美国破公司才捡起来，现在模板压几十片就废、缺陷控不住，连EUV的屁股都摸不到。 Rapidus更逗，2nm技术是IBM教的，EUV是ASML卖的，涂胶是TEL的，掩模DNP还在赶工，日本自己出的是北海道那块地+130亿美元补贴+试产线电性验证。 八九十年代尼康佳能横的时候，架构抄美国GCA、光源外购、光刻胶靠欧美先发，本来就是全球拼图，现在倒好，把“买齐零件做试点”包装成“亚洲之光重新发明”，跟把自营整合说成“全栈自研”一个德行。 真重新发明？光刻机不是日本发的，浸没式是林本坚提的尼康不要的，EUV是美欧实验室攒的ASML集成的。日本这波叫举国补课，不叫发明。能不能把“采购+补贴+试产”和“原创”分清楚？

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看到到开头就绷不住了，还替代EUV，说的真晕乎。首先佳能NIL还没大规模量产，国产也有NIL。其次它取代不了EUV，只能互补，做不了GAA栅极，没法单独造CPU/GPU，是这个路线天生的物理缺陷，只要芯片需要gaa栅极的，他就做不了。就算以后投入使用，芯片最核心的晶体管层还是离不开EUV。 它能干的：闪存阵列层、光芯片、激光雷达光学芯片、AR光波导、MEMS、封装RDL布线、图像传感器微光学层；而且就算做闪存，也只是闪存里面的阵列部分，不是整片闪存全靠NIL。 总结一下就是NIL是特定结构的专用光刻，不是通用光刻。EUV是通用高端光刻，啥复杂多层逻辑都能刻。

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纳米压印吗？ 这玩意儿不是佳能24年的产品吗？ 国内的璞璘科技也搞出来了呀， PL-AS/SR系列的线宽和残余层控制貌似还比日产的好点; 目前来看用处还不是太大，国内主要用这玩意儿搞光芯片，佳能说把这玩意儿引到海力士去产内存，但目前产能多少依旧不清楚，真要替代光刻的话，估计还有很长的路[吃瓜]

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希望早日量产，造福人类[打call]

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还以为AI的中文配音很诡异，直到听到了原声[吃瓜]

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这tts太辣耳..

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纳米压印光刻技术是由Molecular Imprints公司开发的，它是从德克萨斯大学奥斯汀分校分拆出来的。他们花了超过15年时间研发这项技术，后来佳能收购了这家公司。

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ww老早就喊大哥哥别拿了了，台积电一去技术就被偷，什么新技术全是幌子[吃瓜]

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小日子想想当年的广场协议是怎么开始的，链子还在鹰酱的手里。

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日本人当初被美国人活活掐死芯片活路。现在重新来也是拼了。

不就是从湾基电钭过去的嘛[doge]

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一句话概括：美国掌握最上游的核心软件、芯片设计、专利IP；韩国主攻存储芯片；日本掌握大量芯片关键原材料、部分设备；中国台湾最强的是先进芯片代工制造（台积电）；另外还有很关键的荷兰ASML，独家做最顶尖EUV光刻机，这个是很多人容易漏掉的一环。 🇺🇸 美国：顶层核心 1. EDA设计软件：画芯片图纸的工具，三大厂商都是美国企业，几乎垄断高端； 2. 芯片IP、架构专利（ARM是英国，但很多高端指令集、GPU架构是美国）； 3. 高端芯片设计：英伟达GPU、高通、AMD这些； 4. 部分半导体核心设备。 美国不是自己不造芯片，而是大量逻辑芯片的制造外包出去，自己牢牢攥住利润最高、卡脖子的上游。 🇰🇷 韩国：存储芯片为主 ✅ 就是你说的存储（内存DRAM、闪存NAND、现在AI很火的HBM高带宽显存） 两大巨头：三星、SK海力士，全球存储芯片市场份额极高； 同时三星自己也有芯片代工厂，可以制造逻辑芯片，是台积电主要对手。 🇯🇵 日本：核心半导体材料 + 一部分制造设备 不是电机，是芯片制造耗材： 光刻胶、特种气体、光掩膜、高纯硅片基板、抛光液抛光垫……制造芯片每一步要用到的关键化工材料，很多是日本企业占据很高市场份额，少了这些材料晶圆厂很难开工； 同时日本也有不少半导体设备厂商（刻蚀、沉积设备）。 🇨🇳 中国台湾地区：先进晶圆代工（芯片制造） ✅ 台积电，全世界最厉害的芯片代工厂。 芯片公司设计完图纸，交给台积电，把晶圆加工成芯片成品；全球绝大多数高端手机芯片、AI芯片，都是台积电代工生产。 注意：代工是“按照别人的图纸来加工芯片”，芯片的设计知识产权大多还是美国企业手里。 🇳🇱 荷兰（很关键，不能漏掉） ASML公司，唯一可以生产EUV极紫外光刻机的厂家，7nm以下先进芯片制造，离不开这台设备，是整条产业链最卡脖子的单点。 当初产业链就这么固定，谁也不能独吃做全产业链的，如今韩国，日本可也都在计划，只不过随着台积电把最高产业链拆分去了日本熊本后，日本就基本形成全产业链了，特别是佳能这次突破，但是短板还是有几个，却绝对超过我们和其他国家了。这个知识不普及，我们会盲目自嗨。日本再悄悄崛起暗自发功的事实。[doge]，居然连发都被删除，那么就索性记录到我自己空间把

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可惜特朗普只能做到29年了，希望在他有生之年把日本光刻机搬回美国[doge]

嗓音听着真难受[笑哭]

至少这对那些还在跑大多数电子产品的旧25nm机器来说是件好事。他们需要提高每小时晶圆产量。祝他们好运。

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纳米压印（NIL）不是日本原创。 概念1996年德州大学提出，2001年美国MII公司商业化，佳能2014年收购MII才接手做J-FIL。模板寿命约50片、缺陷控制未过量产关，产能≈100片/小时，EUV≈220片/小时。定位是内存/光子层补充，替代不了尖端逻辑。 Rapidus 2nm不是"发明"，是拼图。 IBM授权技术+EUV买ASML的+涂胶用TEL+掩模靠DNP，日本出的是北海道厂房+130亿美元补贴+试产线。目前原型晶圆电性刚验证，良率目标80%还远，2027量产悬。 八九十年代尼康佳能90%市占≠全自研。 架构抄美国GCA（1978年步进机先跑通），光源外购，光刻胶欧美先发，日本强的是镜头+平台+整机集成。本质是"全球拼图里的日本整合者"，不是闭门原创。 真正被"重新发明"错过的是日本自己。 浸没式光刻（193nm+水=等效134nm）是华人林本坚提的，尼康刚愎自用拒掉，ASML接盘2004年量产90nm反超。EUV技术源自美欧实验室联盟，ASML整合蔡司镜头+Cymer光源拿下垄断。日本连EUV都掉队了，现在叫"重新发明"？ 结论： 把"采购+补贴+试产"包装成"重新发明"，把系统集成功劳算成闭门原创，是B站日吹标准话术。真指标只有一个——高端逻辑制程谁在量产。答案是台积电/三星，不是Rapidus。

盲猜还是老美的技术[doge]

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可以啊，价格仅为零头的话的话很快就能把价格压下来

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这尼玛是吃了芥末吗？