【百年化学 日本篇 No.72】光刻胶：半导体江湖的隐形盟主与日本的两次偷袭
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Description
ArF/EUV 光刻胶技术（日本 - TOK/JSR） 1990 年代日本 TOK（东京应化）、JSR 公司，研发化学增幅型光刻胶：以聚羟基苯乙烯为成膜树脂，添加光酸产生剂（PAG），1999 年实现 ArF 光刻胶（193nm 波长）量产；2018 年突破 EUV 光刻胶（13.5nm 波长）技术，用于 7-10nm 芯片制造，全球市场份额超 80%。 原理：光酸产生剂受紫外线（或 EUV）照射生成强酸，催化树脂发生脱保护反应，使曝光区域树脂溶解度提升，经显影液冲洗去除；未曝光区域树脂保持刚性，作为掩膜用于芯片蚀刻。
Comments
其实日本当年几乎和ASML同一时间也研发出来了EUV光刻机样机，只是后面因为各种各样的因素放弃了商业化，全球唯二的EUV光源制造商一是美国的Cymer（光源激光器来自德国通快）、二是日本的Gigaphoton（光源激光器来自日本三菱电机）。至于反射镜组对日本来说更不是什么难事…EEM抛光技术就是日本独一份，蔡司到现在还在用离子束抛光[笑哭]所以全球同步辐射装置X射线反射镜被日本JTEC垄断，国内、欧美的最先进同步辐射X射线反射镜都是JTEC一家提供[吃瓜]不过就在去年，日本又启动了EUV光刻机的商业划工作，被安排在日本K计划中，日本准备在2030年试制基于EUV-FEL光源的EUV光刻机，只能说ASML垄断地位岌岌可危，ASML在EUV-FEL技术领域还是一片空白[笑哭]
♥ 33 ↩ 9
自从半导体被制裁，开始看这些视频，刚开始听说我们设计很厉害，发现依赖国外软件，觉得踮起脚也能够着，后来发现光刻机这座大山，觉得我们可能需要一些年，后来了解背后各种产业的配套，顿时觉得不是一两个五年计划能搞定的了，这些是需要长期积累的，别人走的太远，我们积累太少
♥ 31 ↩ 19
台积电的背后三个玩家，日本，美国，荷兰，当年台积电和韩国在良品率是差不多的，直到日本断了三星材料导致三星的良品率爆了，台积电才超了韩国[doge][doge]
♥ 21 ↩ 13
高精尖我们其实差得非常多，虽然说我们已经是一个工业大国，制造业大国，但是生产/制造高端产品的机械，零件等，都不是我们自己生产的且短时间无法追上
♥ 15 ↩ 5
日本当年被老美收拾了过后就开始搞上游，少玩终端了，而且选了一条靠时间磨的路子，短时间都不好追赶的那种。当年日本确实强的离谱，不过也是收益全球化的红利，本土资源实在太少了。。。
♥ 10 ↩ 2
磷化铟，六氟化钨给他卡了，他也受不了[doge] 大家互相卡
♥ 3
日本光刻胶的主要成分是中国生产的
♥ 3 ↩ 12
[吃瓜]日本用光刻胶制裁个韩国，后来咋样了？
♥ 3 ↩ 5
国产的已经超过日本了，目前保密
♥ 1 ↩ 2
一卡脖子就翻白眼🙄。弯道超车最快也要30年。
♥ 1
上游材料就像大米蔬菜肉。下游制造商就像厨师。没有原材料再好的厨师也做不出菜。[滑稽][滑稽][滑稽][滑稽]
♥ 1 ↩ 2
是不是可以加码制裁鬼子了？
光刻胶市面上有买的吗[吃瓜]
jsr产地不是在常熟嘛[doge]
[星星眼]
创造没有先后，自由竞争更加公正，实力就是硬道理。兢兢业业钻研，开出成果之花，都值得尊敬。👍🌹