【百年化学 中国篇 No.113】光刻胶:一滩被光改命的塑料水,如何成为芯片世界的照骗大师
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Description
高分辨率光刻胶国产化技术(中国) 2010 年后中国突破 5 纳米级光刻胶技术:以酚醛树脂为成膜树脂、重氮萘醌为感光剂,通过分子设计优化树脂结构,提升光刻胶的分辨率与抗蚀刻性,2022 年实现量产,打破日本、美国垄断,用于 14 纳米以下芯片制造,保障半导体产业链安全。 原理:感光剂(重氮萘醌)遇紫外线分解生成羧酸,使曝光区域树脂溶解度提升,经显影液冲洗去除;未曝光区域树脂保持刚性,作为掩膜保护基材,后续蚀刻形成精细电路。
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