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Description
高分辨率光刻胶国产化技术(中国) 2010 年后中国突破 5 纳米级光刻胶技术:以酚醛树脂为成膜树脂、重氮萘醌为感光剂,通过分子设计优化树脂结构,提升光刻胶的分辨率与抗蚀刻性,2022 年实现量产,打破日本、美国垄断,用于 14 纳米以下芯片制造,保障半导体产业链安全。 原理:感光剂(重氮萘醌)遇紫外线分解生成羧酸,使曝光区域树脂溶解度提升,经显影液冲洗去除;未曝光区域树脂保持刚性,作为掩膜保护基材,后续蚀刻形成精细电路。
Comments
光刻胶是最适合突破的领域
♥ 5
把光刻机理解成一个超精密的照相机就行,原理并不复杂。只是当精度做到极限,难度自然指数上升。
♥ 3
112去哪了
♥ 2
根本没撕开口子,工厂基本还是选择日本货
♥ 1 ↩ 7
学习了,细节很多。。。我们做论文的都不需要拿出可以大量生产的产品。理论与实际的差距
♥ 1
光刻机虽然牛逼,但是那个掩膜是怎么搞出来的?那么精细的图案用刀画出来?[嘘声][嘘声][嘘声]
♥ 1 ↩ 3
什么时候能直刻,这种模刻,就像以前打印机模板一样,现在的打印机都是直接打印,而且速度极高。
咱有的光刻胶也可以卖给韩国、彻底砍了日本的销售额
IPA、NMP、PMA等化学品的金属离子、纯度、颗粒物含量已纯化至G4/G5级 光刻胶固体单体小试中试有需要可详细交流一下 公众号 工艺芯联系
低端的自产自足,中端的部分生产,高端的严重不足
1ppm,,,也太夸张了
来了来了!前排围观!(≧∇≦)ノ
其实最阴险的是微软这种用盗版打垮你,像这种给你国产创造一个没有竞争的自由发挥市场,简直是川建国。国产有了市场才有更新迭代的能力,要不成熟厂家怎么可能贸然去换一个新厂家的产品呢?这是工艺流程上再正常不过的事了。
锂电放中国我能理解,为什么光刻胶也放中国篇,看完后,中国产品的市占率也没超日本吧?[思考]
↩ 11
好专业[星星眼][星星眼][星星眼]
光刻胶中国60年代都有了,我在90年代买的半导体生产技术里边就有,那还是技校级别的教科书
↩ 2
啊?播放咋这么少
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